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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設(shè)備是利用這些(xiē)高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙(wū)染物(wù)分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。
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  • 產品概述
  • 技術原理(lǐ)
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產(chǎn)品概述 Product description

產(chǎn)品概述

離子除(chú)臭設備(bèi)是(shì)利用(yòng)這些高能電子(zǐ)、自(zì)由(yóu)基等活(huó)性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的(de)一種環(huán)保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板(bǎn)過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏(fú)特至2萬伏特高(gāo)壓,擊穿廢氣。此階(jiē)段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子化(huà)合物,此為第一階段(duàn)淨化。

其次,隨廢氣(qì)進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接(jiē)觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利(lì)用率高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染(rǎn)物能量,促使長鏈(liàn)、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程(chéng) Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應(yīng)過(guò)程可以看出,電子先從電(diàn)場獲得(dé)能量,通過激(jī)發或電(diàn)離將能量轉移到汙染物分子中去,那些(xiē)獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而(ér)成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和(hé)熱。

另外,高能(néng)電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的(de)物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有(yǒu)很(hěn)好(hǎo)的化學活性(xìng),在(zài)化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中,電子能量(liàng)高,幾乎可以和所有的(de)惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工藝成(chéng)熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上(shàng)解決了設備腐蝕問(wèn)題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無需派專(zhuān)職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停(tíng)止十(shí)分(fèn)迅速,隨(suí)用隨開,不受氣溫的影響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠(chǎng)、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠(chǎng)、造(zào)紙廠、飼(sì)料加工廠等等工業場所。

UV光解(jiě)廢(fèi)氣淨化設(shè)備(bèi)適用範圍

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