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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利(lì)用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和(hé)廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解(jiě)汙染物(wù)的目的的一種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術原(yuán)理
  • 性能優勢
  • 適用範(fàn)圍

產品概述 Product description

產品概述(shù)

離子除臭設備是利用這些高能(néng)電(diàn)子、自由基(jī)等活性(xìng)粒子和廢氣中的汙(wū)染物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多(duō)鏈廢氣分子由於鍵能較(jiào)弱,約束力(lì)較(jiào)小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成(chéng)小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化(huà)基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整(zhěng)個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高(gāo)。

等離子功(gōng)能段可以激發汙染物能(néng)量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷(duàn)裂重組,使難處理的汙染物降解為(wéi)較易處(chù)理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述(shù)

從(cóng)等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量轉移到汙(wū)染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從而成為活性(xìng)基團。然後(hòu)這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相(xiàng)互碰撞後生成穩定產(chǎn)物和熱。

另外,高(gāo)能電子也能(néng)被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的(de)惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作(zuò)簡單,無需(xū)派(pài)專職人員看守,基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革(gé)廠、石油化(huà)工、農藥廠、製藥廠、印(yìn)刷廠、造紙廠、飼料加(jiā)工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨(jìng)化設備適(shì)用範圍

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