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低溫等離子除臭裝置

低（dī）溫等離子除臭裝置

低溫等離子（zǐ）除臭裝置是利用這（zhè）些高能（néng）電子、自由基等活性（xìng）粒子和廢氣中的汙染物作用，使汙染（rǎn）物分子在短的時（shí）間內發生分解，以達到降解汙染物的目的的（de）一種環保設備（bèi）。

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產品概述
技術原（yuán）理
性能優勢（shì）
適用範圍

產品概（gài）述 Product description

低溫等離子除臭（chòu）設備是利用這些高（gāo）能電子、自由基等活性（xìng）粒子（zǐ）和（hé）廢氣中的汙染物作（zuò）用，使汙染物分子在短的時間內發生分（fèn）解，以達到降解汙染物的目（mù）的的一種環保設備（bèi）。

技術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進（jìn）入設備時，由設（shè）備高壓穩定高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段（duàn）中，長（zhǎng）鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較（jiào）弱，約束力較小。很容易被擊穿化學鍵（jiàn）破裂，從而變成小分子化合物，此為第一階段淨化。

其次（cì），隨廢氣進入設備的水（shuǐ）分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強氧化基團羥基、臭氧分（fèn）子等。這些（xiē）強氧化基（jī）團與廢氣分子充分接（jiē）觸氧化，加快反應（yīng）進程。整個反應幹淨，能量利用率高，淨（jìng）化效率非常高。

等離子（zǐ）功能段可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。

等離子體化學反應過（guò）程 Plasma chemical reaction process

從等離子體反應過程可以看出（chū），電（diàn）子先從電場獲得（dé）能量，通過激發（fā）或電離將能（néng）量轉移到（dào）汙染物分子中去，那些獲（huò）得能量的汙染物分子被激發，同時有部分分子被電離，從（cóng）而成（chéng）為活性基（jī）團。然後這些活性基團與氧氣、活性基（jī）團與活性（xìng）基團（tuán）之間相互碰撞後生成穩定（dìng）產物和熱。

另（lìng）外，高能電（diàn）子也能被鹵素和（hé）氧（yǎng）氣等（děng）電（diàn）子親和力較強的物質俘獲，成為（wéi）負離（lí）子。這類負離子具有很好的化學活性（xìng），在化學反應中起著重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的低溫等離子體（tǐ）中，電子能（néng）量高，幾乎可以（yǐ）和所有的惡臭氣（qì）體分子（zǐ）作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣阻小，工藝成熟（shú）；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接（jiē）接觸，根本上（shàng）解決了設備腐蝕（shí）問題（tí）；
04

隻需用電，操作簡單，無需派專（zhuān）職人員看守，基本不占用人工（gōng）費；
05

設備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施，以及（jí）製藥廠（chǎng）、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠（chǎng）、飼料加工廠等等（děng）工業場所。

在線留（liú）言

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