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低溫等離子除臭設備

低溫等離子（zǐ）除臭設備（bèi）

低溫等離子除臭設備（bèi）是利（lì）用這（zhè）些高能電子、自由基等（děng）活性粒子（zǐ）和廢氣中的汙染物作用，使汙染物分子在（zài）短的時間內發生分解（jiě），以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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產品概述（shù）
技術原理
性能（néng）優勢（shì）
適用範圍（wéi）

產品概述 Product description

低溫等（děng）離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基（jī）等活性粒子和廢氣中的汙染物作用（yòng），使汙染物分子在短（duǎn）的時間內發生分解（jiě），以達到降解（jiě）汙染物的目的的一種環保設備。

技（jì）術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時，由（yóu）設備高壓穩定高頻放電，瞬（shùn）間產生1.5萬伏特至（zhì）2萬伏特高壓，擊穿廢氣（qì）。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵（jiàn）能較弱（ruò），約束力較小。很（hěn）容易被擊穿化學鍵破裂，從而變成小分（fèn）子（zǐ）化合物，此為第一階段（duàn）淨化（huà）。

其次，隨廢氣進入（rù）設備的水分子、氧分子（zǐ）被高（gāo）壓（yā）擊穿斷裂，生成強氧化（huà）基團羥基、臭氧（yǎng）分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化，加快（kuài）反應進（jìn）程。整個反應幹（gàn）淨，能量利用率高，淨化效（xiào）率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染（rǎn）物分子的分子鍵斷裂重（chóng）組，使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙（wū）染物。

等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離子體（tǐ）反應過程可以看出，電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到汙染物（wù）分子中去，那些獲得能量的汙染物分子被激發，同時有部（bù）分分子被電離，從而成為活性基團。然後這些（xiē）活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外，高能電子也能被鹵素和氧氣（qì）等電子親和力較強的物質俘獲（huò），成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中起著重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的低溫等離子體中，電子能量（liàng）高，幾乎可（kě）以和所有的惡臭氣體分子作用;
02

反應快，不（bú）受氣（qì）速限製，氣阻小，工藝成熟（shú）；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣（qì）不（bú）直接接觸，根本上（shàng）解決了設備腐蝕問題；
04

隻需用（yòng）電，操作簡單（dān），無需派專職人員看守，基本不占用人工費；
05

設備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不（bú）受氣溫的影響。

適用範圍（wéi） Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施，以（yǐ）及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠（chǎng）等等工業（yè）場所。

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