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低溫等(děng)離子除(chú)臭設備

低溫等離子(zǐ)除臭設備

低溫等(děng)離子除臭(chòu)設備是利用(yòng)這些高能電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這(zhè)些高能電子、自由基等(děng)活性粒子和(hé)廢氣(qì)中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較(jiào)弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂(liè),從而變成小分子(zǐ)化合物(wù),此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子(zǐ)等。這些強氧(yǎng)化基(jī)團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應(yīng)幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物分子的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等(děng)離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述

從等(děng)離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電(diàn)離將能量轉移到汙染物(wù)分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離(lí),從而成為活性基團。然後這(zhè)些活性基團(tuán)與(yǔ)氧氣、活(huó)性基團(tuán)與(yǔ)活性基團(tuán)之間(jiān)相互(hù)碰撞後生成穩(wěn)定產物和熱。

另(lìng)外,高能電子也能被(bèi)鹵素和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的(de)物質俘獲,成為負離子。這(zhè)類負(fù)離子具有很好的化學活性(xìng),在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電(diàn)產生(shēng)的低溫等離子(zǐ)體中,電子能量高,幾乎可以和所(suǒ)有的惡(è)臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防(fáng)腐蝕材料,電極(jí)與廢氣不直接接觸,根本上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作(zuò)簡單,無需派專(zhuān)職人(rén)員看守,基本不(bú)占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠、製藥(yào)廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工(gōng)業場所。

UV光解(jiě)廢氣淨化設備適用範圍

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